2008国际商标标志双年奖作品征集活动反响强烈 最终接受作品时间延至春节

本届双年奖所有参赛作品创作时间限定为2004年至2008年，获奖作品将入选《LOGO2008国际商标标志双年奖年鉴》，并将在国际设计网及相关的宣传资料中刊登。评选结束后，作品将随ADC获奖作品在全国20多个城市巡回展出，更将通过ICOGRADA在各国的设计组织与其他国家进行设计交流展览。详情可登录国际设计网http://www.ccii.com.cn/logo2008/1-logo2008.html或者电话： 010-84567717 、84567727咨询。

两年一度的国际商标标志双年奖是ICOGRADA认可的国际性设计奖项，也是商标节的重要活动之一。历届评审团均由国际著名设计大师组成，其中有ICOGRADA前主席海尔穆特·朗格、AGI前主席石汉瑞、美国分会主席斯蒂夫·盖斯布勒、瑞士分会主席尼古拉斯·特罗斯勒、法国AGI成员吕迪·鲍尔、中国AGI会员余秉楠、靳埭强、阿根廷平面协会主席巴布罗·康斯特、香港设计师协会前任主席刘小康、纽约艺术指导协会（ADC）评委王序等。本次展览展出的是前5届国际商标节的获奖作品， CCII798国际创意设计周展览活动现在火爆进行中，在此活动组委会诚邀CCII理事、特邀嘉宾、会员、学员以及关注ADC、关注CCII的设计界、企业界、媒体界的朋友们前来参观，展览将于2009年1月20日闭幕。